第四代鍍鎳光亮劑簡介及其工藝特點　

    一、工藝簡介

    第四代光亮鍍鎳是指20世紀80年代開發的吡啶類、丙炔醇、丙炔胺衍生的一系列中間體，可以根據工藝需要復配使用，從而可以兼顧光亮度、分散能力、整平能力、穩定性、雜質容忍性、走位能力等多種功能，是綜合性好的新一代鍍鎳添加劑。由于有很多中間體可以選擇，從而使這一代鍍鎳添加劑呈現同多種組合并派生出一些添加劑，包括走位劑、柔軟劑、整平劑、除雜劑等。

    二、工藝特點

    第四代鍍鎳光亮劑以下工藝特點：

    ①鍍層外觀可以根據需要調節為白亮或青亮，以適應不同電鍍用戶的需求；

    ②鍍層結晶細致，整平性好、出光速度快，分散能力強；

    ③添加劑分解產物少、壽命長，處理頻率下降，且鍍層柔軟性好；

    ④抗雜質能力強，對多種金屬雜質有容忍性。

    三、出光速度的探討

    通常認為光亮添加劑是通過影響陰極極化的過程而起作用的，也就是說添加劑對金屬電沉積過程有足夠大的極化作用，從這一些使用了光亮劑的鍍鎳液的陰極極化曲線可以得到印證。但是，新一代的鍍鎳光亮劑并不一定遵守這個原則，通過測試表明，第四代鍍鎳光亮劑的極化作用并不是很明顯，但是其出光的速度非?？?，而且分散能力也很好。

    添加劑在陰極表面的作用從其吸附到起作用(以參與電子交換的方式或以改變鍵能的方式、或影響結晶的方式等)直至脫附，總是有一個速度的。這個速度對電鍍過程是有意義的，可以認為它的速度實際決定這種光亮劑的出光速度和二次電流分布的最初覆蓋面的形成，也就是說有一類光亮劑在陰極表面可以以極快的速度完成參入還原的過程，這不是可以快速出現光亮鍍層，而且對提高二次電流分布的均勻性也是有利的。從電鍍實踐中可以知道，不同的鍍種和鍍液在一次通電后形成的鍍面積是不同的，并且這種初始鍍面要想擴大，需要一定鍍覆時間，對于低電流區，甚至是無論延長多少時間都再也鍍不上。事實上，這種低電流區的電沉積和通過電后的最初的二次電流分布能力有很大的關系，如果所使用的添加劑在一開始的時候就不能讓這些區域得到可以獲得電沉積物，以后的時間內也不會有很大的改善。

    由此可以知道有一類光亮劑并不是一定要以增加陰極極化來起作用的，這也就是新一代鍍鎳光亮劑的技術特征。它對陰極過程的這種影響可以是對晶核起作用，也可以是對晶鍵起作用。換句話來說，它可以影響晶核的大小，也可以影響晶核間的距離，使其不按金屬的本征結晶成長。顯然，一種表面活性物質只可能有一種主要的作用方式，當影響晶核的大小時，就不會對晶核的距離也有大的影響，這時選用另一種有協同效應的添加劑就更有意義了。實際上，現在成功的電鍍光亮劑都是組合型光亮劑，并且很重要的一個技術參數是這些組分的消耗平衡，由于它們作用原理的不同，在什么樣的量的范圍內有作用和在作用過程中的消耗量是多少，對電鍍添加劑的實用性能有很大的影響。